我的一九八五第一零二零章 金慧芳

zeiss smt ag股份制改造后资金有了保障研发实力大增产品更新换代加快还增加了三条生产线源源不断的订单保证了现金流和利润gca的短板、光刻机光学系统的供应也有了保障。

一步先步步先！ zeiss smt ag的光刻机光学系统技术要超过nikon还需要时间蔡司海登海姆公司和蔡司耶拿公司正在商议合并事宜一旦正式合并一家世界级光学巨无霸将诞生。

重生者预感nikon会率先研制成功8英寸晶圆和250nm制程工艺的光刻机造成gca的股价下跌gca随后研制成功8英寸晶圆和250nm制程工艺的光刻机凭借不断升级换代的磁悬浮式双工作台系统和蔡司公司供应的光刻机光学系统引领行业发展 双方你追我赶一旦遭遇65nm制程工艺的瓶颈nikon和gca的科学家都无能为力。

凋刻东西花样要精细刀尖就得锋利如何把光刻机193nm的光波再“磨”细？ 前世九十年代采用的是193nm波长的干式光刻技术随着光刻机的制程工艺不断进步nikon半导体设备公司率先攻克8英寸晶圆和350nm、250nm、180、130、100、90nm、65nm的制程工艺引领行业发展的步伐垄断了高端光刻机的市场份额但在65nm制程工艺上遇到了瓶颈nikon科学家试验了多种技术攻关十多年都无法突破这道挡在半导体产业的世界极难题。

摩尔定律也遇到挑战。

nikon等日本光刻机科学家主张在前代技术的基础上研制f2激光器（波长157nm）走稳健发展的道路；新生的euv llc联盟科学家则押注更加激进的极紫外光技术用仅有十几纳米的极紫外光刻10nm以下的芯片制程…… 想法是好的但研究新一代光刻机的难度巨大随着亚洲金融危机降临全球半导体产业陷入低迷新一代光刻机的研制陷入停滞状态。

直到二零零七年后起之秀asml采用台积电林工程师的技术方向率先研制成功arfi准分子激光器和浸没式光刻系统突破了波长193nm的世界级光学难题直接越过157nm波长的天堑降至132nm波长制造的新一代光刻机突破了65nm制程工艺实现了45nm制程工艺超越nikon高端光刻机从nikon的手里抢到inter、ibm、amd、hp、三星和台积电等所需高端光刻机的订单。

nikon从此开始走下坡路随着euv光刻机的问世asml垄断了全球高端光刻机市场。

孙健私下与邓国辉和钱富强交流干性光刻不能突破193nm的波长能否采用湿性光刻？在透镜和晶圆之间加入去离子水改变折光度试试？湿性光刻需要重新设计特殊的透镜…… 重生者虽然只知道浸没式光刻机的皮毛但提前十多年指引光刻机行业发展的正确方向有磁悬浮式双工作台系统问世的先例邓国辉和钱富强肯定不会怀疑方向性问题有资金保障研制成功就只剩下时间问题。

到时bsec率先研制成功arfi准分子激光器和浸没式光学系统就能在世界光刻机行业有话语权实现弯道超车。

gca步入正轨发展前景看好要钱有钱高薪聘请高端人才蜂拥而至不需要重生者操心指引方向就够了。

“孙健你去忙吧！” 刘悦也为孙健高兴有近800名员工的bsec如今还处于巨亏状态花钱如流水要不是去年淘宝控股公司又增资3亿元bsec早就揭不开锅了作为总部人事部部长杨昌霞的接班人每年跟随孙健、李涛和杨昌霞等到分公司视察和指导工作熟悉分公司的高级管理层和基本经营状况。

------ 京城。

“我代表公司祝贺大家研制成功1um制程工艺的光学系统公司拿出10万元奖励陈副院长拿出40万元奖励研发团队。

” 魏建国、邓国辉、钱国培、陈伟长和欧阳明等陪同孙健接见了光刻机光学系统研究所的43名研发人员和9名技术工人。

啪啪…… “邓院长公司有了1um制程工艺的光学系统还需要多久才能研制成功1um制程工艺的光刻机？” 一般情况下重生者不会干涉邓国辉的研发计划但一天不研制成功1um制程工艺的光刻机bsec就不能扭亏为盈不能成为上市公司不能通过资本市场直接融资。

“孙总最多半年就能看到1um制程工艺的光刻机问世。

” 一晃过去一年多离二年的期限也不长了魏建国、邓国辉和普通员工都有压力谁也不愿意下岗？生死存亡临近激发了众人的潜力一项项难关被攻克大家预计可以提前半年左右完成任务。

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